廠家服務富二代在线:13933151511

富二代在线富二代在线

蝕刻機和光刻机有什么区别,原理有什么不一样

  刻蚀机和光刻机的区别:光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话,光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线,刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蝕刻機和光刻机性质一样,但精度要求是天壤之别。木匠做细活,一般精确到毫米就行。做芯片用的刻蚀机和光刻机,要精确到纳米。现在的富二代在线芯片,如海思麒麟970,高通骁龙845都是台积电的10纳米技术。10纳米有多小呢?打个比方。如果把一根直径是0.05毫米头发丝,按轴向平均剖成5000片,每片的厚度大约就是10纳米。现在世界上最先进的光刻机是荷兰的ASML公司,最小到10纳米。台积电买的都是它的光刻机。ASML公司实际上是美国、荷兰、德国等多个国家技术合作的结果。因为这方面的研究难度太大,单个国家完成不了。除了ASML,世界上只有我们还在高端光刻机上努力研发。

  我們是受到技術禁運的,不能買他最先進的富二代在线,國內上海量産的是90納米的光刻機。技術上有差距。2017年,長春光機所“極紫外光”技術獲得突破,預計能達到22-32納米,技術差距縮小了。

  我相信,不久的將來,我們的科技人員一定能研制出世界一流的光刻機,不再被卡脖子。核心技術、關鍵技術、國之重器必須立足于自己。科技的攻關要摒棄幻想,靠我們自己。

  我們刻蝕機技術已經突破,5納米的刻蝕機我們也能自主生産,現在卡脖子的是光刻機。在芯片加工過程中,光刻機放樣,刻蝕機施工,清洗機清洗。然後反複循環幾十次,一般要500道左右的工序,芯片——也就是晶體管的集成電路才能完成。放樣達不到精度,刻蝕機就失去用武之地了。

  什麽是光刻機

  
  光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光機,曝光系统,光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
  
  Photolithography(光刻)意思是用光來制作一個圖形(工藝);在矽片表面勻膠,然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“複制”到矽片上的過程。
  

  光刻的目的

  
  使表面具有疏水性,增強基底表面與光刻膠的黏附性。
  

  光刻機工作原理


光刻机原理图
  
  上圖是一張光刻機的簡易工作原理圖。下面,簡單介紹一下圖中各設備的作用。
  
  測量台、曝光台:承載矽片的工作台,也就是本次所說的雙工作台。
  
  光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行。
  
  能量控制器:控制最終照射到矽片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
  
  光束形狀設置:設置光束爲圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性。
  
  遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到矽片。
  
  能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,並反饋給能量控制器進行調整。
  
  掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板,貴的要數十萬美元。
  
  掩膜台:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的。
  
  物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小,再被激光映射的矽片上,並且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大,精度的要求高。
  
  矽片:用矽晶制成的圓片。矽片有多種尺寸,尺寸越大,産率越高。題外話,由于矽片是圓的,所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標系,根據缺口的形狀不同分爲兩種,分別叫flat、notch。
  
  內部封閉框架、減振器:將工作台與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動幹擾,並維持穩定的溫度、壓力。
  

  光刻機分類

  

  光刻機一般根據操作的簡便性分爲三種,手動、半自動、全自動。

  A 手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

  B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

  C自動:指的是從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

  光刻機可以分爲接近接觸式光刻、直寫式光刻、以及投影式光刻三大類。接近接觸式通過無限靠近,複制掩模板上的圖案;投影式光刻采用投影物鏡,將掩模板上的結構投影到基片表面;而直寫,則將光束聚焦爲一點,通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。光學投影式光刻憑借其高效率、無損傷的優點,一直是集成電路主流光刻技術。

  

  光刻機應用

  
  光刻機可廣泛應用于微納流控晶片加工、微納光學元件、微納光柵、NMEMS器件等微納結構器件的制備。
 

  刻蝕機是什麽

  實際上狹義理解就是光刻腐蝕,先通過光刻將光刻膠進行光刻曝光處理,然後通過其它方式實現腐蝕處理掉所需除去的部分。隨著微制造工藝的發展;廣義上來講,刻蝕成了通過溶液、反應離子或其它機械方式來剝離、去除材料的一種統稱,成爲微加工制造的一種普適叫法。

  刻蝕機的原理

  感应耦合等离子体刻蚀法(InducTIvely CoupledPlasma Etch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP 射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的RF 射频作用下,这些等离子体对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体生成挥发性物质,以气体形式脱离基片,然后从真空管路被抽走。

相關富二代在线

PCB蝕刻機的原理和工艺流程,看完很有收获

河北瑞思特電子科技有限公司

富二代在线:龙经理 13933151511

公司富二代在线:河北省石家莊市鹿泉區禦園路99號光谷科技園A-1棟

Copyright 2014-2018 河北瑞思特電子科技有限公司 富二代在线 冀ICP备18008662号

.

公司在線客服

關閉

廠家服務富二代在线
13933151511


点击这里给我公司发消息 企業客服

点击这里给我公司发消息 企業客服